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沐阳相信，如果是技术成熟的电子束光刻机，线宽比0.7n小。
他在系统商店普通货架上默念搜索「电子束光刻机」，很快，搜索出几款相关技术。
沐阳选择适合自己公司的一款技术：EBL01
技术参数：
1．最小线宽：小于1nbr/>
2．加速电压：5—500kV
3．电子束直径：小于0.5nbr/>
4．套刻精度：1nan＋0.20）
5．拼接精度：1nan＋0.20）
6．加工晶圆尺寸：4—18英寸
7．描电镜分辨率：小于0.2nbr/>
主要特点：
1．采用超高亮度和超高稳定性的TFE电子枪；
2．出色的电子束偏转控制技术；
3．采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率可达0.0002n
4．采用轴对称图形书写技术，图形偏角分辨率可达0.002ad；
5．应用领域广泛，如
微纳器件加工，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻，图形线宽和图形位移测量等。
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需要成就点：300点！
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沐阳大概看了下简介，光从技术参数上就看出它的先进性。
还有更加先进的光刻机，但是，以星海集团目前的条件，买了也造不出来，而且需要的成就点非常多。
这个EBL01号称可以制造1n下的芯片，但量产成本会比较高。
因此，当前的情况，星海集团可以从7n片工艺开始，可以保证在2018年之前保持在世界第一地位。
等竞争对手可以批量搞7n片了，星海集团再推出5n3n片。
有些设备应用，也用不着这么高端的芯片，28n片工艺足够，也是未来十年内的主流。
只是说，沐阳不打算玩什么中低端芯片。
另外，沐阳打算弄一些小于1n芯片，用于制造量子计算机和超算，这类芯片他打算自用。
接下来，沐阳确认购买EBL01技术。
十几分钟后，沐阳把EBL01技术吸收完毕。
他感觉自己对光刻机有了更深入的了解，如今就是实实在在的芯片制
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