光刻机高出了几十倍，再加上体型的收缩，内部的电路走线更是被陈决大幅度魔改了一番。
想要给这台机器供上电可不是容易的事情，为此林卫国等人还特意将地下工事的输电电缆进行了一阵改造，搭配上了特高压的输送电口。
等到电源线一搭，庞大的电力开始正式输入，洁白无瑕的机体外壳上亮起来一个四方、简约、内置的操控面板。
只是这会儿控制面板内并没有导入光刻程序，因为陈决造的只是裸机，想要让它进行运作流片还得导入特定的EDA设计程序才行。
好在光电所这边最不缺的就是芯片设计程序！
在边上讨论了片刻后，林卫国就在陈决的指导下，将一块大型数据盘插入了机器当中，顺带从里面读取了一份最新型的芯片设计图出来。
“果然是原子级别的精度！”
“连XYZ轴的参数都注明了极限位移能够达到0.1纳米！”
“0.1纳米的干式光刻？我感觉自己就像是在做梦！”几个陪同操作的技术人员看到显示器上的数据后，都忍不住惊叹了起来。
反倒是林卫国在旁边有些苦涩地抿了抿嘴。
因为0.1纳米这个加工精度完全超出了他们所的芯片设计图纸精度上限！
要知道，现目前的集成电路设计图可是动不动就包含上百亿个晶体管。
像最新型的麒麟系列9000芯片，内置了CPU和GPU两种功能，它的晶体管数量更是达到了150亿以上。
这还只是运用了传统的5纳米工艺！
一旦提高到0.1纳米，相当于把加工精度在原有基础上提升了50倍。
光刻的精度越高，晶体管之间的间隔缝隙被缩小，一块芯片上能被利用的空间就会被近乎无限一样放大。
加工精度高了50倍以后，单块同样大小的麒麟芯片上的晶体管数量，可不是简单的1×50那样提升。
而是会呈现指数级爆拉！
能一口气把晶体管干到千亿甚至万亿以上！
可问题是，这种堪称魔鬼一样的超级芯片的机器确实是被陈决搞出来了，但是相应适合0.1纳米工艺芯片图纸却没有现成的。
毕竟种花家在EDA芯片设计这块同样与国外存在不小的代差，能研发EDA图纸的企业和单位放眼全国都是寥寥无几。
哪怕是林卫国所在的光电所，最高也只能拿出几款百亿级的芯片设计图。
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